Temiz oda silecekleri malzeme özelliklerine ve uygulama senaryolarına bağlı olarak genellikle iki şekilde kullanılır: kuru silme ve ıslak silme:
(1) Kuru Silme
Malzeme Özellikleri: Kuru silme temiz oda silecekleri genellikle yüksek yoğunluklu polyester veya poliamid elyaftan yapılır. Yüksek su emme, düşük lif dökülmesi ve düşük parçacık salınımı ile karakterize edilirler.
Uygulanabilir Senaryolar: Öncelikle yüzeylerden toz ve parçacıkları uzaklaştırmak için kullanılır, aşındırıcı temizlik gerektirmeyen işlemlere uygundur. Düşük parçacık salınımları, onları yarı iletkenler, fotovoltaikler ve LED'ler gibi endüstriler için tercih edilen sarf malzemesi haline getiriyor.
Avantajları: Kuru silme silecekleri, kullanım sırasında ek temizlik maddelerine ihtiyaç duymaz, ikincil kirlenmeyi etkili bir şekilde önler ve ortamda yüksek düzeyde temizlik sağlar.
(2) Islak Silme
Malzeme Özellikleri: Islak silme silecekleri genellikle yüzeye özel bir anti-statik işlem uygulanır veya yüzey yükünü azaltmak için kuru silme sonrasında iyon temizleme ve kalıntı temizleme işlemlerine tabi tutulur.
Uygulanabilir Senaryolar: Öncelikle statik elektriğe karşı son derece hassas olan elektronik bileşenlerin veya optik lenslerin temizlenmesi için kullanılır. Antistatik özelliklerinden dolayı elektrostatik çekimden kaynaklanan partikül kirlenmesini etkili bir şekilde önleyebilirler.
Avantajları: Islak silme işlemi yapılırken, temiz oda silecekleri, temizleme işlemi sırasında nötralizasyonu sağlamak için genellikle deiyonize veya düşük iyonlu temizlik maddeleriyle birlikte kullanılır.
Temiz Oda Sileceklerinin neden "iyon temizliği" veya "kalıntı temizliği" işleminden geçmesi gerekiyor?
İyon temizleme ve kalıntı temizleme, esas olarak aşağıdaki nedenlerden dolayı Temiz Oda Sileceklerinin kalitesini sağlamak için temel işlemlerdir:
(1) Kalıntıların ve Katkı Maddelerinin Uzaklaştırılması
Kirliliğin Giderilmesi: Üretim süreci sırasında, sileceğin yüzeyinde üretim ekipmanından kalan yağ, katkı maddeleri veya diğer küçük yabancı maddeler bulunabilir. İyon temizleme işlemi bu kalıntıları etkili bir şekilde ortadan kaldırabilir ve bunların gerçek kullanım sırasında temizlenen yüzeye aktarılmasını önleyebilir.
Geliştirilmiş Temizlik: İyon temizliği sayesinde sileceğin yüzeyindeki kalıntılar tamamen giderilerek ISO 14644 temiz oda standardını karşılaması sağlanır ve ikincil bir kirlenme kaynağı haline gelmemesi sağlanır.
(2) Yükün ve Elektrostatik Adsorpsiyonun Azaltılması
Yük Nötralizasyonu: İyon temizleme işlemi, silme bezinin yüzeyindeki yükü nötralize eder. İşlenmemiş silme bezleri pozitif veya negatif yükler taşıyabilir, havadaki küçük parçacıkları kolaylıkla çekebilir veya temizlenen nesne üzerinde elektrostatik adsorpsiyona neden olabilir.
Elektrostatik Kirlenmenin Önlenmesi: Entegre devre (IC) üretimi gibi statik elektriğe karşı son derece hassas işlemler için, iyonla temizlenmiş silme bezleri, elektrostatik boşalma (ESD) riskini önemli ölçüde azaltarak, hassas bileşenleri hasardan korur.
(3) Antibakteriyel ve Antifungal Özelliklerin Artırılması
Temizlik ve Hijyen: İyon temizleme işlemine genellikle yüksek sıcaklıkta kurutma ve ultraviyole sterilizasyon eşlik eder. Bu sadece kalıntıları gidermekle kalmaz, aynı zamanda silme bezinin yüzeyindeki bakteri, mantar ve sporları da öldürerek kullanım sırasında büyümelerini engeller.
Güvenliğin Sağlanması: Tıp, ilaç ve biyoteknoloji gibi alanlarda, silme bezlerinin sıkı hijyen standartlarını karşılaması gerekir ve iyon temizliği bu hedefe ulaşmak için gerekli bir adımdır.

Український











